清溢光电 (688138): 回答：尊敬的投资者，您好！感谢您对公司的关注。 根据佳能方面最新消息，该公司宣布推出新型纳米压印半导体制造设备，采用了纳米压印技术，可实现最小线宽为14nm的图案化，相当于5nm节点需要，生产目前可用的最先进的逻辑半导体。此外，随着掩膜版技术的进一步改进，纳米压印技术有望实现最小线宽为10nm的电路图案，对应于2nm节点。 该技术是将设计有半导体电路图形的纳米压印掩膜母版通过压印的方式，将半导体电路图形转移到晶圆上，类似于用印章盖章的过程。 我们初步了解光掩膜版技术是制造纳米压印掩膜母版的基础工艺和材料。未来随着半导体纳米压印技术的拓展，对光掩膜版的需求也会随之增加，但是目前关于该技术的资料较少，尚需进一步跟踪了解。 公司在2013年开发了应用于传统触控屏掩膜版产品的纳米压印掩膜版工艺，并应用在早期的触控屏掩膜版产品中。对于佳能公司新推出新型纳米压印半导体制造设备，公司将积极关注并跟进其对应的技术要求。

2023-10-19 16:23:18