网友提问 ：公司半年报提到能增加光掩膜版的利用效率，该技术是否可用于四种曝光，公司是否和海思在多重曝光方面有合作
2024-09-08 02:44:20
广立微 (301095): 回答：尊敬的投资者您好，该方案具体是指利用公司的IP及核心技术，可以在相同掩模面积中放置更多测试结构，换言之，同样数量的测试结构占用的掩模面积更小，该技术与测试芯片版图设计及集成电路良率提升技术相关，与光刻过程中的曝光模式无直接关联。感谢您的关注！
2024-09-27 15:42:43
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2024-09-27 15:42:43
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2024-09-18 00:00:00
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广立微
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集成电路EDA软件和晶圆级电性测试设备的设计、开发、服务。
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