网友提问 ：年报显示公司经过自主研发攻关，“卡脖子”的关键原材料项目——非羟胺项目报告期内取得重大技术突破，已开发出满足晶圆制造企业要求的无羟胺干法蚀刻后清洗液产品。目前该产品已通过国内主流晶圆制造客户的验证，标志着我司对铝制程清洗技术的理解与研发能力已走在世界前列。
请介绍下无羟胺干法蚀刻后清洗液产品有哪些技术优势。
2023-05-02 10:32:34
上海新阳最新互动问答
- 年报显示上海新阳集成电路制造用高端光刻胶系列产品为公司面向芯片制造领域开发的电子光刻系列产品。包括 I 线光刻胶、KrF 光刻胶、ArF 干法、浸没式光刻胶以及稀释剂、底部抗反射膜（BARC）等配套材料。
请问：光刻胶稀释剂、底部抗反射膜（BARC）是否为完成研发新产品？
2023-05-10 17:02:55
- 年报显示报告期内光刻及研磨两大系列产品实现营业收
入超百万元。
请问：2023年光刻及研磨两大系列产品是否会大批量生产贡献营收？谢谢！
2023-05-10 17:03:27
- 公司最近年度报告中对ArF干法光刻胶验证进展未提及，请问目前该产品验证进展如何？
2023-05-10 16:36:02
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上海新阳
法定名称：上海新阳半导体材料股份有限公司
公司简介：
公司系上海新阳半导体材料有限公司全体股东以发起方式设立的股份有限公司。
经营范围：
一类为集成电路制造及先进封装用关键工艺材料及配套设备的研发、生产、销售和服务,并为客户提供整体化解决方案。另一类为环保型、功能性涂料的研发、生产及相关服务业务,并为客户提供专业的整体涂装业务解决方案。
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办公地址上海市松江区思贤路3600号
主营收入57700
