网友提问 ：臭氧清洗技术可以用于先进封装中的晶圆清洗工艺环节。请问在芯片和光刻机清洗运用领域广泛吗？
2024-10-24 15:32:58
国林科技 (300786): 回答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程。感谢您的关注。
2024-10-28 15:32:48
国林科技最新互动问答
- 有消息称，中芯国际下属封装公司将收购贵公司，将打通下游清洗环节，收购价格为40元一股，是否属实？
2024-10-28 15:32:48
- 子公司国林半导体臭氧设备产品从2022年下半年开始进行市场导入，2023年以来陆续在半导体、光刻机、面板、科研等行业领域出货验证，该产品用于化学气相沉积（CVD）、原子层薄膜沉积（ALD）、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除等工艺中。是否属实？
2024-10-28 15:32:48
- 公司目前研制的光伏用高浓度臭氧水机主要用于生产HJT异质结类型电池板，主要在制绒，清洗和薄膜沉积工序应用。属实吗？
2024-10-28 15:32:48
- 贵公司的半导体设备和技术实现了国产替代没有？
2024-10-28 15:32:48
- 有消息称，贵公司获得了光伏大订单，是否属实？
2024-10-28 15:32:48
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国林科技
法定名称：青岛国林科技集团股份有限公司
公司简介：
1994年12月13日,丁香鹏、陈建明与朱若英以货币形式设立“青岛国林实业有限责任公司”。
经营范围：
专业从事臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计与臭氧系统设备安装、调试、运行及维护等业务。
注册地址山东省青岛市市北区瑞昌路168号
办公地址山东省青岛市崂山区株洲路188号甲
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