近日哈工大宣布研发成功名为“高速超精密激光干涉仪”技术，这项技术是14纳米光刻机的重要技术，可以确保掩膜工作台、双工作台和物镜系统之间复杂的相对位置，实现光刻机的整体套刻精度，解决了光刻机的一项重要技术难题。这项技术获得了世界光子大会“金燧奖”的金奖，证明了技术的含金量。
点评：据悉，中国已在双工作台、物镜系统、激光光源等光刻机技术方面已取得了进展，如今再有高速超精密激光干涉仪的技术突破，代表中国正进一步加快光刻机产业链的技术研发，中国也成为全球唯一一个拥有完善光刻机产业链的经济体。这几年美国的做法逼出了中国芯片行业的潜力，中国芯片屡屡打破空白，在存储芯片、射频芯片、GPU芯片方面都取得了突破，经过这几年的努力在光刻机关键技术上也陆续取得进展，打破科技霸权的日子正快步而来。
炬光科技（688167）+2.35%为半导体光刻应用领域提供光刻机曝光系统中的核心激光光学元器件光场匀化器。
赛微电子（300456）+0.95%为ASML提供透镜系统MEMS部件的工艺开发与晶圆制造服务，该厂商目前为公司MEMS业务的前十大客户。
$富创精密(sh688409)$已进入全球光刻机龙头ASML供应链体系；
$蓝英装备(sz300293)$瑞士子公司UCM AG为ASML及其供应商提供极紫外光刻机（EUV）的光学系统相关关键部件的清洗设备。
物镜系统 赛微电子
光源 福晶科技、茂莱光学
光学元件 腾景科技、钜光科技、晶方科技
光学镜头 奥普光电、波长光电
结构件 富创精密、新莱应材、电科数字、锐新科技、海立股份
空气净化设备 美埃科技
真空设备 新莱应材
液体恒温设备 同飞股份
清洗设备 蓝英装备、国林科技
光掩模版 路维光电、清溢光电
参股光刻机 张江高科、上海电气