拓荆科技 (688072): 回答：答：公司持续保持高强度研发投入，目前PECVD产品可以实现全系列PECVD薄膜材料覆盖，包括通用介质薄膜（SiO2、SiN、TEOS、SiON、SiOC、FSG、BPSG、PSG等）及先进介质薄膜（LoKI、LoKII、ACHM、ADCI、HTN、a-Si、ONO等）；公司研制的PE-ALD设备已经实现量产，可以沉积SiO₂、SiN等介质薄膜材料；Thermal-ALD设备已经出货至不同客户端进行验证，可以沉积AL₂O₃等金属及金属化合物薄膜。公司持续扩大PECVD、ALD等产品的工艺覆盖面，并根据客户需求持续创新、提升性能指标，公司薄膜设备产品已获得客户的大量订单。

2024-03-29 00:00:00