网友提问 ：多重曝光，意味着需要多次沉积、光刻、清洗，对晶圆沉积、光刻胶、（硬）掩膜板以及清洗的需求都会大幅增加。例如：自对准四重曝光的前提是完成四层沉积。请问公司产品能否满足多重曝光（N+2、N+3）工艺对应的多次沉积和清洗的技术需求？
2025-06-25 11:57:38
国林科技最新互动问答
- 公司是目前a股上市公司中唯一一家从事光刻清洗相关设备研发制造的公司对吗？目前a股从事光刻清洗相关的化学品生产的公司较多，但研发生产光刻清洗设备的只有公司一家，这是否可以理解为公司多年在臭氧设备积累的技术已经形成在这方面的技术门槛？
2025-07-07 08:27:40
- 公司的设备在晶圆厂芯片光刻产线上，是与光刻机一起作为前后工序配套使用的吗？按照目前国内走的多重曝光路线，需要光刻一次，清洗一次。再光刻一次，清洗一次。需要多次光刻多次清洗。光刻设备、涂胶显影设备与清洗设备需要协同合作。
2025-07-07 08:28:10
- n+2和n+3工艺的核心在于多重曝光（自对准四重曝光）SAQP技术，该技术是国产芯片突破先进制程的有效路径。随着国产芯片的良率不断提升，saqp技术已经成为7nm以下制程纯国产芯片的主导。四重曝光技术相对于单次曝光，会带来光刻胶的消耗量、光刻胶清洗、掩膜板清洗以及薄膜沉积次数的增加。公司的清洗设备和薄膜沉积设备能否满足自对准四重曝光相关的多次光刻清洗和薄膜沉积需求？
2025-07-07 08:28:40
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国林科技
法定名称：青岛国林科技集团股份有限公司
公司简介：
1994年12月13日,丁香鹏、陈建明与朱若英以货币形式设立“青岛国林实业有限责任公司”。
经营范围：
专业从事臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计与臭氧系统设备安装、调试、运行及维护等业务。
注册地址山东省青岛市市北区瑞昌路168号
办公地址山东省青岛市崂山区株洲路188号甲
主营收入13400
