网友提问 ：n+2和n+3工艺的核心在于多重曝光（自对准四重曝光）SAQP技术，该技术是国产芯片突破先进制程的有效路径。随着国产芯片的良率不断提升，saqp技术已经成为7nm以下制程纯国产芯片的主导。四重曝光技术相对于单次曝光，会带来光刻胶的消耗量、光刻胶清洗、掩膜板清洗以及薄膜沉积次数的增加。公司的清洗设备和薄膜沉积设备能否满足自对准四重曝光相关的多次光刻清洗和薄膜沉积需求？
2025-06-26 11:10:42
国林科技最新互动问答
- 贵司回应过没有自对准多重曝光的技术，这个本身就是芯片光刻制作的核心技术，公司不涉及是正常的。但自对准多重曝光技术需要进行多次清洗、多次沉积，从技术原理上，臭氧比其他传统湿化学品更加适合这种多次清洗和多次沉积，传统清洗每次会残留部分杂质，多次清洗意味着残留杂质会累积，影响芯片良品率。而公司的半导体清洗和薄膜沉积设备正好具备不残留杂质的优点。请问公司设备能否满足自对准多重曝光的对清洗、沉积的技术要求？
2025-07-07 08:30:40
- 董秘您好，据中科院半导体研究所官方微信公众号发布的研究成果，目前针对EUV（极紫外光）掩膜板的清洗过程中，包括颗粒去除、表面损伤控制、污染防止以及副产物清除等，都具有较大的技术挑战。目前中科院的研究结论认为，一种有效的解决方案是采用臭氧水清洗。臭氧水能够确保有效去除EUV掩膜板的表面有机物和颗粒，而不会导致材料的氧化或表面损伤。请问，公司的臭氧水清洗设备能否满足EUV掩膜板的清洗精度要求？
2025-07-07 08:30:40
- 公司臭氧设备在海洋经济与深海科技领域的应用？
2025-07-07 08:32:10
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国林科技
法定名称：青岛国林科技集团股份有限公司
公司简介：
1994年12月13日,丁香鹏、陈建明与朱若英以货币形式设立“青岛国林实业有限责任公司”。
经营范围：
专业从事臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计与臭氧系统设备安装、调试、运行及维护等业务。
注册地址山东省青岛市市北区瑞昌路168号
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主营收入13400
