网友提问 ：EUV光刻技术对晶圆表面洁净度的要求是传统工艺的数十倍，臭氧设备的精密控制能力成为提高EUV光刻机整体效能，提升芯片制造良率的关键因素。公司的半导体臭氧设备从技术上能否保证晶圆在进入EUV光刻机前达到高洁净度要求？能否有效提升芯片光刻制造的良率？
2025-07-01 21:38:40
国林科技最新互动问答
- 公司是否掌握了海水消毒增氧臭氧微纳米气泡技术？该技术的原理是通过特殊的设备将臭氧气体溶入水中，能够净化海水，改善海水水质，有效增加氧气在水中的溶解度，提高水体的氧含量，从而改善水质和生态环境，在海水养殖领域具有较高的应用价值。
2025-07-07 08:33:10
- 多重曝光，意味着需要多次沉积、光刻、清洗，对晶圆沉积、光刻胶、（硬）掩膜板以及清洗的需求都会大幅增加。例如：自对准四重曝光的前提是完成四层沉积。请问公司产品能否满足多重曝光（N+2、N+3）工艺对应的多次沉积和清洗的技术需求？
2025-07-07 08:27:40
- 公司是目前a股上市公司中唯一一家从事光刻清洗相关设备研发制造的公司对吗？目前a股从事光刻清洗相关的化学品生产的公司较多，但研发生产光刻清洗设备的只有公司一家，这是否可以理解为公司多年在臭氧设备积累的技术已经形成在这方面的技术门槛？
2025-07-07 08:27:40
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国林科技
法定名称：青岛国林科技集团股份有限公司
公司简介：
1994年12月13日,丁香鹏、陈建明与朱若英以货币形式设立“青岛国林实业有限责任公司”。
经营范围：
专业从事臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计与臭氧系统设备安装、调试、运行及维护等业务。
注册地址山东省青岛市市北区瑞昌路168号
办公地址山东省青岛市崂山区株洲路188号甲
主营收入13400
