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网友提问 :12、2024 年 11 月 8 日,国家知识产权局公布了一项公司有关“一种掩膜装置、掩膜装置的制作方法和光刻设备”的发明专利,请问该专利是基于未来产品规划和公司发展需要?

2024-11-13 00:00:00

莱宝高科 (002106): 回答:答:上述您所提及的发明专利为公司已自主研发出的技术,目前处于申请公开阶段,尚未获得授权,能否获得授权存在一定的不确定性;公司使用该等技术目前用来提升触摸屏产品的分辨率等技术指标,设备制作精度仅为微米级别,与半导体行业的光刻设备的制作精度(一般精度为纳米级别)差距几百倍甚至上千倍,敬请包括您在内的广大投资者予以客观理性看待。

2024-11-13 00:00:00

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莱宝高科

法定名称:
深圳莱宝高科技股份有限公司
公司简介:
公司经深圳市人民政府深函[2000]64号文和深圳市外商投资局深外资复[2000]B1553号文批准,由深圳莱宝真空技术有限公司整体变更为股份有限公司;2006年12月,经中国证券监督管理委员会证监发行字[2006]161号文核准,本公司向社会公众发行人民币普通股4880万股。
经营范围:
研发和生产平板显示材料及触控器件。
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