网友提问 ：从技术研究成果来看，半导体臭氧设备是否更适合于euv光刻配套？
2025-08-07 13:24:17
国林科技最新互动问答
- 国内首台压印光刻机已经正式研发成功，纳米压印光刻的原理是将模板图形转移到涂有压印胶的基底上，通过高温、高压使模板图案固化到压印胶中，最后通过刻蚀去除残留胶体以形成微纳米结构。请问公司产品是否配套于纳米压印光刻工艺？
2025-08-11 08:42:10
- 公司生产的半导体设备性能是否能达到目前世界主流7nm以下（包含5nm和3nm）euv级别和duv级别芯片光刻配套设备水准？
2025-08-11 08:42:40
- 公司您好。作为半导体臭氧设备领域的专家，想请问公司，一般而言，目前一台薄膜沉积设备需要配备几台半导体臭氧设备？占整个薄膜沉积设备的成本占比是多少？前道槽式清洗设备和槽式清洗设备，分别需要配备几台半导体臭氧设备？分别占其各自的成本是多少？
2025-08-11 08:42:40
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国林科技
法定名称：青岛国林科技集团股份有限公司
公司简介：
1994年12月13日,丁香鹏、陈建明与朱若英以货币形式设立“青岛国林实业有限责任公司”。
经营范围：
专业从事臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计与臭氧系统设备安装、调试、运行及维护等业务。
注册地址山东省青岛市市北区瑞昌路168号
办公地址山东省青岛市崂山区株洲路188号甲
主营收入13400
