网友提问 ：请问公司的半导体臭氧设备产生的臭氧，是否在半导体制造中贯穿“清洗-沉积-刻蚀-保护”全流程？同时它是支撑先进制程（如5nm/3nm芯片、Mini-LED、化合物半导体）的核心技术要素吗？
2025-08-02 15:32:55
国林科技最新互动问答
- 公司您好，贵司的臭氧清洗设备能清洗光刻胶。但是不同制程的光刻胶所需要的清洗方式与清洗技术是不一样的。公司之前回复能满足清洗，但是对于公司的技术能力并没有一个很明确的说明。请问公司，目前最高级别的euv光刻胶，公司的设备能否满足其清洗要求？（就针对euv光刻胶而言）
2025-08-11 20:45:10
- 公司臭氧半导体设备对碳化硅器件的氧化沉积的作用？
2025-08-11 20:45:10
- 跪求公司正面回复一次，公司400g/L浓度的半导体臭氧设备的技术含量能否像mks同款设备那样，进行euv光刻胶的清洗。
2025-08-11 08:38:10
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国林科技
法定名称：青岛国林科技集团股份有限公司
公司简介：
1994年12月13日,丁香鹏、陈建明与朱若英以货币形式设立“青岛国林实业有限责任公司”。
经营范围：
专业从事臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计与臭氧系统设备安装、调试、运行及维护等业务。
注册地址山东省青岛市市北区瑞昌路168号
办公地址山东省青岛市崂山区株洲路188号甲
主营收入13400
