网友提问 ：EUV（极紫外光）掩膜版清洗和euv光刻胶清洗都已经开始采用先进的臭氧水清洗方式，以替代传统的rca清洗。请问euv掩膜板清洗和euv光刻胶清洗从技术原理上，对臭氧水设备的性能要求有何不同？需要达到怎样的性能？
2025-08-13 22:01:06
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- 公司半导体设备产生的半导体级气体（臭氧、二氧化碳、氨气）能达到多少N的纯度？
2025-08-15 15:54:40
- 目前臭氧水清洗成为3nm以下先进制程的优选方案。目前国际东京电子（TEL）实验显示，臭氧水对EUV 光刻胶的去除率比硫酸﹣双氧水混合液(SPM）高20%，且无硫残留。台积电在3nm制程中采用臭氧水预处理，使晶圆缺陷密度降低15%。ASML的混合工艺：臭氧水+兆声波（Megasonic）协同清洗，减少物理损伤。请问公司是否了解上述行业发展？公司能否介绍一下臭氧水在3nm以下制程的优势？
2025-08-15 15:54:40
- 公司正在开发紫外-臭氧联用设备，可分解光刻胶显影后的有机残留物，清洗效率比传统工艺提升40%。以及正在研发EUV光刻胶生产用的高纯度臭氧气体纯化系统，金属杂质含量
2025-08-15 15:54:40
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国林科技
法定名称：青岛国林科技集团股份有限公司
公司简介：
1994年12月13日,丁香鹏、陈建明与朱若英以货币形式设立“青岛国林实业有限责任公司”。
经营范围：
专业从事臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计与臭氧系统设备安装、调试、运行及维护等业务。
注册地址山东省青岛市市北区瑞昌路168号
办公地址山东省青岛市崂山区株洲路188号甲
主营收入13400
