网友提问 ：在光刻技术方面，高纯二氧化碳有2大用途。一是用于沉浸式光刻技术，保证液体不从侧面泄露出去，进一步提高光刻分辨率。二是因其高纯度和化学惰性，成为光刻机冷却系统的理想选择。其纯度通常达到99.999%以上，能够有效降低光源温度，同时避免杂质对光源和光学系统的污染。请问公司的半导体级高纯二氧化碳设备在技术上是否能满足沉浸式光刻技术以及降低光刻机光源温度的需要？
2025-08-15 09:33:56
国林科技最新互动问答
- 公司的半导体臭氧设备400g/L，这是浓度指标。而臭氧气体纯度指标，指的是臭氧气体的纯净度，即臭氧以外的杂质含量多少，在业内通用都是用％来表示，多少个9数字就代表多少N。同类型的公司比如天津奥尔斯曼，比如美国mks，在其半导体臭氧发生器的产品参数中，都有标注其产生的臭氧气体纯度达99.9995％，为6N水准。通常公认半导体级气体的纯度必须要达到至少5N，所以请问公司的臭氧设备产生的臭氧气体纯度多少
2025-08-18 08:55:11
- 公司在2024年报中提到公司的半导体设备已经在国内晶圆芯片终端（fab）厂正式投入使用，请问是否属实？是国内头部的fab厂吗？
2025-08-15 16:04:40
- 恭喜公司顺利复产，请问公司停产期间，是否将晶体乙醛酸库存处理完毕？做到轻装上阵？
2025-08-15 16:10:12
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国林科技
法定名称：青岛国林科技集团股份有限公司
公司简介：
1994年12月13日,丁香鹏、陈建明与朱若英以货币形式设立“青岛国林实业有限责任公司”。
经营范围：
专业从事臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计与臭氧系统设备安装、调试、运行及维护等业务。
注册地址山东省青岛市市北区瑞昌路168号
办公地址山东省青岛市崂山区株洲路188号甲
主营收入13400
