盛剑环境 (603324): 回答：半导体附属装备及核心零部件作为公司的核心战略业务之一，公司秉承“行业延伸、产品延伸”的发展战略，围绕该领域逐步完成了工艺废气处理设备、真空设备和温控设备的国产化研制。上述设备共同作用于对半导体制程设备反应腔的辅助控制，可使反应腔满足刻蚀、离子注入、扩散及薄膜沉积等工艺所需的环境条件，是半导体附属装备中不可或缺的重要组成部分。具体来说，温控设备可对反应腔进行高精密的温度控制，以实现半导体工艺制程的控温需求；真空设备可使反应腔体内部形成发生反应所必须的真空环境，并抽离工艺废气，传输至工艺废气处理设备中进行无害化处理。因此，上述三种产品具有密切联系，我们以此希望打造一个半导体附属装备及核心零部件的平台化公司。

2024-04-19 00:00:00