网友提问 ：贵司回应过没有自对准多重曝光的技术，这个本身就是芯片光刻制作的核心技术，公司不涉及是正常的。但自对准多重曝光技术需要进行多次清洗、多次沉积，从技术原理上，臭氧比其他传统湿化学品更加适合这种多次清洗和多次沉积，传统清洗每次会残留部分杂质，多次清洗意味着残留杂质会累积，影响芯片良品率。而公司的半导体清洗和薄膜沉积设备正好具备不残留杂质的优点。请问公司设备能否满足自对准多重曝光的对清洗、沉积的技术要求？
2025-06-26 13:05:22
国林科技最新互动问答
- 董秘您好，据中科院半导体研究所官方微信公众号发布的研究成果，目前针对EUV（极紫外光）掩膜板的清洗过程中，包括颗粒去除、表面损伤控制、污染防止以及副产物清除等，都具有较大的技术挑战。目前中科院的研究结论认为，一种有效的解决方案是采用臭氧水清洗。臭氧水能够确保有效去除EUV掩膜板的表面有机物和颗粒，而不会导致材料的氧化或表面损伤。请问，公司的臭氧水清洗设备能否满足EUV掩膜板的清洗精度要求？
2025-07-07 08:30:40
- 公司臭氧设备在海洋经济与深海科技领域的应用？
2025-07-07 08:32:10
- 公司和新凯来有合作吗
2025-07-04 16:59:40
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国林科技
法定名称：青岛国林科技集团股份有限公司
公司简介：
1994年12月13日,丁香鹏、陈建明与朱若英以货币形式设立“青岛国林实业有限责任公司”。
经营范围：
专业从事臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计与臭氧系统设备安装、调试、运行及维护等业务。
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主营收入13400
