网友提问 ：公司在半导体领域的发展前景有多大？目前国产替代的趋势，对于公司半导体设备的需求有多大？
2025-08-18 13:19:55
国林科技最新互动问答
- 公司产品能进行euv光刻胶的清洗吗？
2025-08-18 11:45:11
- 目前为止，DUV光刻胶分为KrF248nm和ArF193nm两种，而EUV光刻胶是CAR光刻胶。公司有针对duv和euv光刻胶特性不同，而开发生产对应的半导体臭氧涂胶显影和光刻胶清洗设备吗？
2025-08-18 11:45:11
- 在光刻技术方面，高纯二氧化碳有2大用途。一是用于沉浸式光刻技术，保证液体不从侧面泄露出去，进一步提高光刻分辨率。二是因其高纯度和化学惰性，成为光刻机冷却系统的理想选择。其纯度通常达到99.999%以上，能够有效降低光源温度，同时避免杂质对光源和光学系统的污染。请问公司的半导体级高纯二氧化碳设备在技术上是否能满足沉浸式光刻技术以及降低光刻机光源温度的需要？
2025-08-18 11:45:11
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国林科技
法定名称：青岛国林科技集团股份有限公司
公司简介：
1994年12月13日,丁香鹏、陈建明与朱若英以货币形式设立“青岛国林实业有限责任公司”。
经营范围：
专业从事臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计与臭氧系统设备安装、调试、运行及维护等业务。
注册地址山东省青岛市市北区瑞昌路168号
办公地址山东省青岛市崂山区株洲路188号甲
主营收入13400
