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网友提问 :据外媒报道,日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)设计了一种EUV光源光刻技术,其核心投影仪由两个反射镜组成,将EUV光源到晶圆的反射镜数量限制为总共4面,而在现在行业里,EUV光源需要通过10面反射镜最终到达晶圆,这使得EUV光刻机可采用更小的光源,功率不到传统EUV光刻机的十分之一,如果公司借鉴这种思路,是否能极大降低了我国开发EUV光源难度?毕竟如果不再追求大能量,那就只剩下高重频超快方向了

2024-08-03 10:41:25

英诺激光 (301021): 回答:尊敬的投资者,您好!公司将持续关注新技术走向。感谢您的分享和关注!

2024-08-16 18:49:31

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英诺激光

法定名称:
英诺激光科技股份有限公司
公司简介:
2011年11月30日,公司前身“深圳英诺激光科技有限公司”成立。
经营范围:
研发、生产和销售微加工激光器和定制激光模组。
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